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专利名称：涂胶显影机上盖清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：顾烨,木建秀
申请号：CN201320510137.2申请日：20130820公开号：CN203437361U公开日：20140219
摘要：本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具和若干下部冲洗喷嘴，所述涂胶显影机上盖置于所述底板上，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括上部冲洗喷嘴。本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了上部冲洗喷嘴，上部冲洗喷嘴能够从清洗盘的上方将清洗溶剂喷入清洗盘中，清洗溶剂通过清洗盘导流后，从清洗盘周侧的上段喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。
申请人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
地址：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区(亦庄)文昌大道18号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
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