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专利名称：一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法专利类型：发明专利发明人：韩福柱,艾福超申请号：CN200710062638.8申请日：20070112公开号：CN100999062A公开日：20070718
摘要：一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法，属于机械工件表面光整加工技术领域。本发明所述抛光方法，是将要抛光的工件放入装有磁流变抛光液的容器中，并加以固定；然后制作与被抛光表面整体形状吻合的整体式磁性抛光模，该整体式磁性抛光模可以用永久磁铁制作，如果是线切割机床加工导磁性工件，也可以直接采用加工掉的另一块工件做导磁性抛光模，与电磁铁一起组成整体式磁性抛光模。然后使整体式磁性抛光模与所要抛光的表面作相对运动进行抛光。利用整体式磁性抛光模的形状适应性和磁流变抛光液的高柔性，就可以对型腔型芯模具及零件进行简单高效的抛光，从而能有效解决复杂型腔型芯表面抛光难题，是一种适用于金属和非金属工件表面抛光方法。
申请人：清华大学
地址：100084 北京市100084信箱82分箱清华大学专利办公室
国籍：CN
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