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专利名称：一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方
法
专利类型：发明专利
发明人：李文昊,巴音贺希格,齐向东,孔鹏,韩建申请号：CN200910215451.6申请日：20091231公开号：CN101793988A公开日：20100804
摘要：一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题是提供一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法。解决的技术方案为：步骤一，配备一套用于全息光栅曝光的洛艾镜式曝光光学系统；步骤二，在洛艾镜式曝光光学系统中置入基准光栅，调整干涉场的干涉条纹密度与基准光栅的刻线密度相同；步骤三，在基准光栅位置放置涂有光致抗蚀剂的光栅基底用于曝光，使曝光后光栅的刻线密度与干涉场的干涉条纹密度相同。本方法通过莫尔条纹法将对微米级的干涉场干涉条纹的周期测量转换为对毫米级的莫尔条纹的测量，能精确确定全息光栅的刻线密度，采用该方法对于制作全息光栅具有较大的实际意义。
申请人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
地址：130033 吉林春市东南湖大路3888号
国籍：CN
代理机构：长春菁华专利商标代理事务所
代理人：刘树清
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