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专利名称：一种半消光膜专利类型：实用新型专利发明人：时招军,毛兴龙申请号：CN2017210349.3申请日：20170818公开号：CN207274071U公开日：20180427
摘要：本实用新型公开了一种半消光膜，包括抗粘结层，所述抗粘结层、抗静电层、防腐抗菌层、支撑层、复合材料层和改性半消光层依次叠加共挤而出，所述的抗粘连层的厚度为1.0μm～3μm，所述抗静电层采用乙氧基化烷基胺制成，其厚度为0.1～0.15μm，所述防腐抗菌层的厚度为0.5‑1.0μm，所述的支撑层的厚度为8～15μm，改性半消光层的厚度1.0～4.0μm，本实用新型结构简单、合理，解决了薄膜的防腐抗菌性能差的问题，改性的纳米二氧化硅和纳米二氧化钛的可以在薄膜的表面形成微小突起，减少异物与薄膜表面的接触面积从而减少划痕，提高半消光膜的品质，其产品表面效果稳定，使用时视觉美学感较强，产品质量稳定，使用寿命长，经济效果好。
申请人：江西科为薄膜新型材料有限公司
地址：332700 江西省九江市彭泽县定山镇沿江工业区
国籍：CN
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