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专利名称：一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置专利类型：实用新型专利
发明人：戴之杰,赵峰,季华,李林杰,季建龙,陆龙官申请号：CN201920613481.1申请日：20190430公开号：CN210752616U公开日：20200616
摘要：本实用新型公开了为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，包括底座，所述底座的顶端四角均固定安装有立柱,所述立柱的顶端固定安装有壳体，所述壳体的顶端右侧固定安装有超声波发生器，所述壳体的内腔设置有伸缩机构，所述底座的内腔设置有夹紧机构，所述伸缩机构包括第一伺服电机、第一转轴、第二转轴、圆形板、第一连杆、第二连杆和超声波振动棒。该亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，无需要工作人员手动将超声波振动棒竖直固定在反应容器内，操作简单，便于对不同大小的容器进行固定，提高了工作效率。
申请人：泉州市鸿远电子科技有限公司
地址：362000 福建省泉州市惠安县辋川镇后许村新厝126号
国籍：CN
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