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专利名称：一种二维干涉图的相位提取方法专利类型：发明专利发明人：刘克,陈晨,李艳秋申请号：CN201410350553.X申请日：20140722公开号：CN104155011A公开日：20141119
摘要：本发明提供一种二维干涉图的相位提取方法，具体过程为：设定参考频率，基于所述参考频率生成含一定相移量的多幅参考干涉图，将所述参考干涉图称为虚光栅；将待处理干涉图与每一虚光栅相乘，得到多幅莫尔条纹图；对每一幅莫尔条纹图进行傅里叶变换，得到莫尔条纹图的频谱；采用低通滤波器滤出每一频谱中的低频部分，再对低频部分进行逆傅里叶变换，得到多幅低频莫尔条纹强度图；对多幅低频莫尔条纹强度图进行移相计算，获取待处理干涉图x方向和y方向所要求的相位。该方法能够处理所采集到的二维干涉图，不仅具有较高的提取精度，而且具有较强的抗噪性。
申请人：北京理工大学
地址：100081 北京市海淀区中关村南大街5号
国籍：CN
代理机构：北京理工大学专利中心
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